(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210750167.4 (22)申请日 2022.06.28 (71)申请人 上海至纯系统集成有限公司 地址 200000 上海市闵行区紫海路170号2 幢3、 4层 (72)发明人 沈一林　孙效义　洪梦华　汪荣法　 (74)专利代理 机构 北京沁优知识产权代理有限 公司 11684 专利代理师 林捷达 (51)Int.Cl. B08B 9/032(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种液态前驱体供 液设备 (57)摘要 本发明公开了一种液态前驱体供液设备， 包 括原液容器、 缓冲容器、 出口阀组和第一吹扫管， 原液容器连接有第一进气管， 第一进气管连接有 第一控制阀， 原液容器连接有原液出液管， 原液 出液管连接有第二进气管， 第二进气管与第一进 气管连通， 第二进气管设置有第二控制阀， 第一 控制阀位于第二进气管和原液缓冲容器 之间， 缓 冲容器连接有缓冲出液管； 第一吹扫管设置有吹 扫控制阀， 原液出液管连接有连接管， 连接管与 第一吹扫管连通， 连接管与进气管连通， 进气管 连通有第一排气管， 缓冲容器连接有第二排气 管。 本发明提供的一种液态前驱体供液设备方便 更换原液容器， 同时使 得缓冲容器 保持稳定的压 力和流量进行供液。 权利要求书1页 说明书5页 附图5页 CN 115254815 A 2022.11.01 CN 115254815 A 1.一种液态前驱体供液设备， 其特征在于： 包括原液容器(2)、 缓冲容器(3)和第一吹扫 管(4)， 所述原液容器( 2)连接有第一进气管(5)， 所述第一进气管(5)连接有第一控制阀 (6)， 所述原液容器(2)连接有原液出液管(7)， 所述原液出液管(7)与缓冲容器(3)连通， 所 述原液出液管(7)连接有第二进气管(8)， 所述第二进气管(8)与第一进气管(5)连通， 所述 第二进气管(8)设置有第二控制阀(9)， 所述第一控制阀(6)位于第二进气管(8)和原液缓冲 容器(3)之间， 所述缓冲容器(3)连接有缓冲出 液管(10)； 所述第一吹扫管(4)与原液出液管(7)连通， 所述第一吹扫管(4)设置有吹扫控制阀 (11)， 所述原液出液管(7)连接有连接管(12)， 所述连接管(12)与第一吹扫管(4)连通， 所述 连接管(12)与进气管连通， 所述进气管连通有第一排气管(13)， 所述连接管(12)与第一排 气管(13)连通， 所述 缓冲容器(3)连接有第二排气管(14)， 所述第二排气管(14)与第一排气 管(13)连通。 2.根据权利要求1所述的液态前驱体供液设备， 其特征在于： 所述缓冲出液管(10)连接 有脱气组件(16)， 所述脱气组件(16)连接有出口阀组(17)； 所述出口阀组(17)包括流出管(171)， 所述流出管(171)与脱气组件(16)连接， 所述流 出管(171)连接有 多个分液 管(172)， 每 个所述分液 管(172)均连接有分液控制阀(173)。 3.根据权利要求2所述的液态前驱体供液设备， 其特征在于： 液态前驱体供液设备还包 括第二吹扫管(18)， 所述第二 吹扫管(18)分别 穿过分液管(172)并与 分液管(172)连通， 所 述第二吹扫管(18)通过第二连接管(12)与流出 管(171)连通。 4.根据权利要求1所述的液态前驱体供液设备， 其特征在于： 所述第二进气管(8)连接 有真空管(19)。 5.根据权利要求4所述的液态前驱体供液设备， 其特征在于： 所述第二进气管(8)连接 有第一压力 传感器(20)， 所述第一压力传感器(20)用于检测第二进气管(8)和缓冲容器(3) 中的压力。 6.根据权利要求4所述的液态前驱体供液设备， 其特征在于： 所述原液出液管(7)连接 有第二压力 传感器(21)， 所述第二压力传感器(21)用于检测原液出液管(7)和原液容器(2) 中的压力。 7.根据权利要求 4所述的液态前驱体供 液设备， 其特 征在于： 还 包括高温传感器(2 2)。 8.根据权利要求1所述的液态前驱体供液设备， 其特征在于： 还包括称重盘(23)， 所述 缓冲容器(3)设置在称重盘(23)上， 所述称重盘(23)用于对缓冲容器(3)进行称重 。 9.根据权利要求8所述的液态前驱体供液设备， 其特征在于： 还包括箱体(1)， 所述称重 盘(23)、 原液容器(2)和缓冲容器(3)均 设置在箱体(1)内， 所述箱体(1)的底部设置有漏液 围挡(15)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115254815 A 2一种液态前驱体供液设 备 技术领域 [0001]本申请涉及半导体用清洗液的领域， 尤其是 涉及一种液态前驱体供 液设备。 背景技术 [0002]高纯ALD/CVD液态前驱体产品是整个电子工业体系的核心原材料之一， 其被广泛 应用于电脑芯片、 太阳能电池、 移动通讯、 卫星导航、 航 天器等电子器件制造的诸多方面， 在 航天航空、 新型太阳能电池、 电子产品等领域发挥着巨大作用。 [0003]目前， 随着5G、 新能源车等下游应用兴起导致全球芯片行业缺货严重。 前驱体是半 导体薄膜沉积工艺的主要原材料， 可用于半导体外延生长、 刻蚀、 离子注入掺杂以及清洗 等。 前驱体的纯度和洁净度直接影响到光、 微电子元器件的质量和成品率， 并从根本上制约 着电路和器件的精确性。 [0004]针对上述中的相关技术， 液态前驱体在输送的过程中由于容易被空气氧化， 同时 由于原液容器中的前驱体溶液容易被用尽， 导致液态前驱体在输送和供应的过程中流量和 压力容易发生变化， 造成供 液不稳定 。 发明内容 [0005]为了减少液态前驱体在供液的过程中被氧化污染的现象， 提高液态前驱体在供液 过程中的稳定性， 本申请提供一种液态前驱体供 液设备。 [0006]本申请提供的一种液态前驱体供 液设备采用如下的技 术方案： [0007]一种液态前驱体供液设备， 包括原液容器、 缓冲容器、 出口阀组和第一吹扫管， 所 述原液容器连接有第一进气管， 所述第一进气管连接有第一控制阀， 所述原液容器连接有 原液出液管， 所述原液出液管与缓冲容器连通， 所述原液出液管连接有第二进气管， 所述第 二进气管与第一进气管连通， 所述第二进气管设置有第二控制阀， 所述第一控制阀位于第 二进气管和原液缓冲容器之间， 所述缓冲容器连接有缓冲出 液管； [0008]所述第一吹扫管与原液出液管连通， 所述第一吹扫管设置有吹扫控制阀， 所述原 液出液管连接有连接管， 所述连接管与第一吹扫管连通， 所述连接管与进气管连通， 所述进 气管连通有第一排气管， 所述连接管与第一排气管连通， 所述缓冲容器连接有第二排气管， 所述第二 排气管与第一 排气管连通。 [0009]通过采用上述技术方案， 打开第一控制阀， 高压气体通过第一进气管进入到原液 容器中， 原液容器中的液态前驱体通过原液出液管进入到缓冲容器中， 打开第二控制阀， 高 压气体通过第一进气管和 第二进气管进入到缓冲容器中， 缓冲容器中的液态前驱体通过缓 冲出液管流出。 当原液容器中的液态前驱体用尽时， 调节第二控制阀， 高压气体通过第二进 气管进入到缓冲容器中， 从而方便更换原液容器， 同时使得缓冲容器保持稳定的压力和流 量进行供液。 当管路内积累一定量有毒物质时， 通过第一吹扫管对管路进 行吹扫， 吹扫气体 通过第一吹扫管、 连接管进入到缓冲容器、 原液容器及所有管路中， 最后通过排气管排出， 从而将管路中的有毒物质排出， 减少 了有毒物质对液态前驱体的污染， 提高了液态前驱体说　明　书 1/5 页 3 CN 115254815 A 3