(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 20221075240 3.6 (22)申请日 2022.06.28 (71)申请人 智程半导体设备 科技 （昆山） 有限公 司 地址 215000 江苏省苏州市昆山市玉山 镇 玉杨路299号3号房 (72)发明人 顾雪平　时新宇　 (74)专利代理 机构 深圳智财正达知识产权代理 事务所(普通 合伙) 44907 专利代理师 王玉珍 (51)Int.Cl. B08B 11/00(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 11/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01)F26B 21/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) H01L 21/677(2006.01) (54)发明名称 一种晶圆生产用槽式清洗 机 (57)摘要 本发明公开一种晶圆生产用槽式清洗机， 涉 及半导体清洁技术领域， 包括清洗装置、 运送装 置和烘干装置， 运送装置用于将花篮运送到清洗 装置和烘干装置， 通过清洗装置和烘干装置对晶 圆进行处理， 本发明将三个清洗箱设置在中， 旋 转进行切换， 节省空间也节省了零件， 进而节约 了成本， 清洗装置中能够通过加压对清洗箱内的 去离子液进行排 放， 进一步增了快排的速度。 权利要求书1页 说明书4页 附图11页 CN 115121568 A 2022.09.30 CN 115121568 A 1.一种晶圆生产用槽式清洗机， 包括清洗装置(1)和烘干装置(3)， 所述清洗装置(1)和 烘干装置(3)之间设置用于运送装置(2)， 运送装置(2)上放有花篮(4)， 其特征在于： 所述清 洗装置(1)包括箱 体(101)， 箱 体(101)上旋转装有旋转外壳(105)， 旋转外壳(105)内均匀设 置有三个清洗箱(104)， 清洗箱(104)设置上下两个开口， 上开口处轴向滑动装有密封板 (120)并且径向固定， 密封板(120)上设置有小孔， 箱体(101)内竖直滑动装有挡板(119)， 挡 板(119)与所述清洗箱(104)下开口位置对应， 清洗箱(104)上设置有管道组件， 管道组件 上 设置有三通管(111)， 三通管(111)的第一端 连接管道组件， 三通管(111)的第二端 连通有通 气管(109)， 三通管(111)的第三端连通有清洁液管(110)， 三通管(111)内设置有球形阀门 (115)， 球形阀门(115)上有两个开口， 两个开口连通连通管(116)和通气管(109)或者连通 连通管(116)和清洁液管(110)， 球形阀门(115)的一侧固定装有齿轮(112)， 所述挡板(119) 上固定装有齿条(113)， 齿条(113)和 齿轮(112)啮合， 通过挡 板(119)的升降带动球形阀门 (115)转动。 2.如权利要求1所述的一种晶圆生产用槽式清洗机， 其特征在于： 所述清洗箱(104)内 竖直滑动装有浮漂(122)， 浮漂(122)随着清洁液上升， 浮漂(122)上升到最顶端时堵住所述 密封板(120)上的小孔。 3.如权利要求2所述的一种晶圆生产用槽 式清洗机， 其特征在于： 所述管道组件位于清 洗箱(104)内的一端连接有喷淋头(123)。 4.如权利要求3所述的一种晶圆生产用槽式清洗机， 其特征在于： 所述密封板(120)的 一端固定装有复位弹簧(121)， 复位弹簧(121)与所述旋转外壳(10 5)固定连接 。 5.如权利要求1所述的一种晶圆生产用槽式清洗机， 其特征在于： 所述运送装置(2)包 括支撑板(201)， 支撑板(201)上装有横移组件， 横移组件上装有取放架(202)， 横移组件带 动取放架(202)穿过所述旋转外壳(105)， 取放架(202)下侧设置卡板， 卡板的上表 面上放置 有花篮(4)， 所述取放架(202)的一侧旋转装有拨杆(207)， 拨杆(207)与所述取放架(2 02)之 间固定装有扭转弹簧(208)， 拨 杆(207)的底端在移动过程中与所述密封 板(120)接触。 6.如权利要求5所述的一种晶圆生产用槽式清洗机， 其特征在于： 所述支撑板(201)上 竖直滑动装有托板(209)， 所述支撑板(201)上固定装有升降气缸(211)， 升降气缸(211)的 缸臂与托板(209)固定连接 。 7.如权利要求1所述的一种晶圆生产用槽式清洗机， 其特征在于： 所述烘干装置(3)包 括烘干箱(301)， 烘干箱(301)上滑动装有上盖(302)， 烘干箱(301)上设置吹风管(304)， 吹 风管(304)上位于烘干箱(301)内的一端 连通有喷气头(306)， 喷气头(306)为环形并固定安 装在烘干箱(301)的四面内壁上， 烘干箱(301)内竖直滑动装有通风板(307)， 通风板(307) 长和宽都小于喷气头(3 06)内侧的长和宽 。 8.如权利要求7所述的一种晶圆生产用槽式清洗机， 其特征在于： 所述通风板(307)的 两侧设置阶梯形开口， 烘干箱(301)内固定装有斜面， 斜面的最低端有输出管道， 所述斜面 位于阶梯形开口下侧。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115121568 A 2一种晶圆生产用槽式清洗机 技术领域 [0001]本发明涉及半导体清洁技 术领域， 特别涉及一种晶圆生产用槽式清洗 机。 背景技术 [0002]多槽式超声波清洗机采用纯水、 或弱酸性， 水基溶剂作清洗剂， 多与喷淋、 喷流、 热 浸、 超声兆 声鼓泡等清洗方式组合， 配以合适的产品干燥方式， 组成半自动超声波清洗生产 线。 在现有技术中， 多槽式清洗机过于庞大， 占地面积大， 并且大多数用于机械臂来进行操 作， 机械臂所需要的编程数据特别复杂， 所以现需要一种结构简单， 操作容易， 体积和占地 面积小的槽式清洗 机。 [0003]公开号为CN2129 76079U的中国实用新型专利中公开了一种槽式清洗机， 包括箱体 和安装组件， 所述箱体内限定有用于容纳清洁剂的清洁槽， 所述安装组件包括安装板、 用于 安装晶圆的旋转架和旋转驱动装置， 所述旋转驱动装置与所述旋转架均安装在所述安装板 上， 所述旋转架和所述旋转驱动装置的输出端相连， 所述安装板可拆卸安装在所述清洁槽 的槽口上， 该装置公开了一种旋转清洗的结构， 但是操作复杂， 占地 面积大， 同时控制复杂。 发明内容 [0004]针对上述技术问题本发明公开一种晶圆生产用槽式清洗机， 包括清洗装置和烘干 装置， 所述清洗装置和烘干装置之间设置用于运送装置， 运送装置上放有花篮， 所述清洗装 置包括箱体， 箱体上旋转装有旋转外壳， 旋转外壳内均匀设置有三个清洗箱， 清洗箱设置上 下两个开口， 上开口处轴向滑动装有密封板， 并且径向固定， 密封板上设置有小孔， 箱体内 竖直滑动装有挡板， 挡板与所述清洗箱下开口位置对应， 清洗箱上设置有 管道组件， 管道组 件上设置有三通管， 三通管的第一端连接管道组件， 三通管的第二端连通有通气管， 三通管 的第三端连通有清洁液管， 三通管内设置有球形阀门， 球形阀门上有两个开口， 两个开口连 通连通管和通气管或者连通连通管和清洁液管， 球形阀门的一侧固定装有齿轮， 所述挡板 上固定装有 齿条， 齿条和齿轮啮合， 通过挡板的升降带动球形阀门转动。 [0005]进一步地， 所述清洗箱内竖直滑动装有浮漂， 浮漂随着清洁液上升， 浮漂上升到最 顶端时堵住所述密封 板上的小孔。 [0006]进一步地， 所述管道组件位于清洗箱内的一端连接有喷淋头 。 [0007]进一步地， 所述密封板 的一端固定装有复位弹簧， 复位弹簧与所述旋转外壳固定 连接。 [0008]进一步地， 所述运送装置包括支撑板， 支撑板上装有横移组件， 横移组件上装有取 放架， 横移组件带动取放架 穿过所述旋转外壳， 取放架下侧设置卡板， 卡板的上表面上放置 有花篮， 所述取放架的一侧旋转装有 拨杆， 拨杆与所述取放架之间固定装有扭转弹簧， 拨杆 的底端在移动过程中与所述密封 板接触。 [0009]进一步地， 所述支撑板上竖直滑动装有托板， 所述支撑板上固定装有升降气缸， 升 降气缸的缸臂与托板固定连接 。说　明　书 1/4 页 3 CN 115121568 A 3