(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123439 273.0 (22)申请日 2021.12.3 0 (73)专利权人 广州晶优电子科技有限公司 地址 510663 广东省广州市高新 技术产业 开发区香 山路17号厂房B3 01 (72)发明人 欧阳华　欧阳晟　曹锋　陈炀　 方宏森　 (74)专利代理 机构 广州润禾知识产权代理事务 所(普通合伙) 44446 专利代理师 郑永泉 (51)Int.Cl. F26B 15/18(2006.01) F26B 23/00(2006.01) F26B 25/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种晶片的烘烤 装置 (57)摘要 本实用新型涉及石英晶片生产设备技术领 域， 更具体地， 涉及一种晶片的烘烤装置， 包括加 热装置、 传输辊、 基座平台和传输带， 所述传输 辊 设置在基座平台的两侧， 所述传输带设置在传输 辊上， 所述加热装置设置在基座平台上； 还包括 收纳盘支架， 所述收纳盘支架用于放置收纳盘， 所述传输 带上设有网状孔， 所述收纳盘支架通过 网状孔与所述传输带形成活动连接。 在保证烘烤 质量的同时， 提高烘烤的效率。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 216448564 U 2022.05.06 CN 216448564 U 1.一种晶片的烘烤装置， 包括： 加热装置、 传输辊、 基座平台和传输带， 所述传输辊设置 在所述基座平台的两侧， 所述传输带设置在传输辊上， 所述加热装置 设置在基座平台上； 其 特征在于， 还包括收纳盘支架， 所述收纳盘支架用于放置收纳盘， 所述传输带上设有网状 孔， 所述收纳盘支 架通过网状孔与所述传输带 形成活动连接 。 2.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述传输带为金属的网状 传输带。 3.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述收纳盘支架为金属结 构。 4.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述收纳盘支架包括多个 整齐排列的子支架， 所述子支架的宽度与收纳盘的宽度匹配， 且长度小于所述收纳盘的长 度。 5.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述收纳盘支架设有3至5 个子支架。 6.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述收纳盘支架的两侧设 有向外延展的凸沿， 所述收纳盘支 架长度与所述传输带的宽度匹配。 7.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述收纳盘支架与所述传 输带之间设置有容纳所述收纳盘的空间， 所述空间的高度为所述收纳盘的厚度的1至 3倍。 8.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述收纳盘的水平截面为 矩形， 所述收纳盘中间设有容纳晶片的容腔。 9.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述收纳盘支架的下部设 有与所述网状孔配合的插脚。 10.根据权利要求1所述的一种晶片的烘烤装置， 其特征在于， 所述加热装置设有在所 述传输带的两侧。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216448564 U 2一种晶片的烘烤 装置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及石英晶片生产设备 领域， 更具体地， 涉及一种晶片的烘烤 装置。 背景技术 [0002]石英片， 通常由石英熔炼并切割磨制而成， 其二氧化硅含量可达99.99％ 以上。 硬 度为莫氏七级， 具有耐高温、 热膨胀系数低、 耐热震性和电绝缘性能良好等特点。 通常为无 色透明类， 可见光透过率8 5％以上。 石英片的形成是由于其熔体高温黏度很高引起的结果。 用于制作半导体、 电光源器、 半导通信装置、 激光器， 光学仪器， 实验室仪器、 电学设备、 医疗 设备和耐高温耐腐蚀的化学仪器、 化工、 电子、 冶金、 建材以及国防等工业， 应用十分广泛， 在使用过程中 需要对石英进行装片。 [0003]在石英晶体生产制造过程中， 需要经过一道烘烤的工序操作流程。 烘烤装置是用 于烤银胶的固化隧道炉， 产品经过点胶工序， 用银胶将晶片和陶瓷基座粘合在一起， 经过固 化隧道炉高温烘烤后， 银胶变干硬后固定晶片在陶瓷基座内部。 但现有的烘烤设备通常只 是依赖传输带上放置待烘烤的晶片， 对设备内一次烘烤的空间利用率低， 导致能量和时间 的浪费； 而普通的叠加烘烤 又容易因为晶片直接接触造成遮挡， 导致烘烤受热温度不均匀， 影响烘烤的效果。 实用新型内容 [0004]有鉴于此， 本实用新型的目的在于克服现有技术的不足， 提供一种晶片的烘烤装 置， 在保证烘烤质量的同时， 提高烘烤的效率。 [0005]为了解决上述 技术问题， 本实用新型采用如下 方案实现： [0006]一种晶片的烘烤装置， 包括： 加热装置、 传输辊、 基座平台和传输带， 所述传输辊设 置在所述基座平台的两侧， 所述传输带设置在传输辊上， 所述加热装置 设置在基座平台上； 还包括收纳盘支架， 所述收纳盘支架用于放置收纳盘， 所述传输带上设有网状孔， 所述收纳 盘支架通过网状孔与所述传输带 形成活动连接 。 [0007]通过双层设计， 使得除传输带上放置收纳盘外， 收纳盘支架还能多设置一层收纳 盘的烘烤， 实现烘烤效率的提高。 [0008]进一步的， 所述传输带为金属的网状传输带。 [0009]所述金属传输带可以在加热装置加热时加快温度的传递， 提高加热的效率， 将传 输带设置为网状， 可以增加晶片的受热面积， 增加热风的空气流动性， 也方便与收纳盘支架 底部通过固定插脚进行配合， 形成活动连接， 方便固定 。 [0010]进一步的， 所述收纳盘支 架为金属结构。 [0011]收纳盒支架为金属结构， 通过金属结构的设置可以加快热量的传递， 受到高温加 热也不易变形， 增 加承重。 [0012]进一步的， 所述收纳盘支架包括多个整齐排列的子支架， 所述子支架的宽度与收 纳盘的宽度匹配， 且长度小于所述收纳盘的长度。说　明　书 1/4 页 3 CN 216448564 U 3