(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 20221078319 9.4 (22)申请日 2022.07.05 (71)申请人 湖北科技学院 地址 437000 湖北省咸宁市咸宁大道8 8号 (72)发明人 徐海红　陈小玲　赵东　 (74)专利代理 机构 武汉明正专利代理事务所 (普通合伙) 42241 专利代理师 刘璐 (51)Int.Cl. G01N 21/41(2006.01) G01N 21/01(2006.01) G01N 1/28(2006.01) (54)发明名称 一种基于空间古斯-汉森位移的肝脏病理切 片检测结构及其制备方法 (57)摘要 本发明涉及一种基于空间古斯 ‑汉森位移的 肝脏病理切片检测结构， 其可表示为DE(AB)NC (BA)N， 其中N为光子晶体的周期数， A、 B和C分别 为折射率不同的电介质薄片， D为半球形电介质 光波导， E为肝脏病理切片， 且C为缺陷层， 用于产 生缺陷模。 本发 明还提供了上述肝脏病理切片检 测结构的制备方法。 本发明设计的一种基于空间 古斯‑汉森位移的肝脏病理切片检测结构， 对肝 脏病理切片的检测属于无损检测， 病理切片可以 反复使用， 且操作 简单、 检测速度快， 具有超高灵 敏度， 此外整体制备方法具有通用性， 可操作性 强， 便于大规模生产。 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 CN 115144370 A 2022.10.04 CN 115144370 A 1.一种基于空间古斯 ‑汉森位移的肝脏病理切片检测结构， 其特征在于， 所述检测结构 可表示为DE(AB)NC(BA)N， 其中N为光子晶体的周期数， A、 B和C分别为折射率不同的电介质薄 片， D为半球形电介质光波导， E为肝脏病理切片， 且C为缺陷层， 用于产生缺陷模； 即整个结 构的主体是两个光子多层结构(AB)N和(BA)N关于缺陷层C对称分布， 形成缺陷光子晶体(AB)NC (BA)N， 肝脏病理切片E位于所述缺陷光子晶体(AB)NC(BA)N的任意一端， 即E(AB)NC(BA)N， 光 波导D位于肝脏病理切片E的另一端， 最终形成结构 DE(AB)NC(BA)N。 2.根据权利要求1所述的一种基于空间古斯 ‑汉森位移的肝脏病理切片检测结构， 其特 征在于， 所述电介质薄片A的材料为二氧化钛， 且其折射率为na＝2.5086； 电介质薄片B的材 料为二氧化锆， 且其折射率为nb＝2.132； 电介质薄片C的材料为硅， 且其折射率为nc＝ 3.636； 光波导D的材 料为二氧化硅， 且其 折射率为nd＝1.4525 。 3.根据权利要求2所述的一种基于空间古斯 ‑汉森位移的肝脏病理切片检测结构， 其特 征在于， 所述电介质薄片A和B的厚度分别为各自折射率对应的1/4光学波长； 所述电介质薄 片A、 B、 C和肝脏病理切片E的长度和宽度比入射波长大两个量级以上。 4.根据权利要求2或3所述的一种基于空间古斯 ‑汉森位移 的肝脏病理切片检测结构， 其特征在于， 所述电介质薄片A的厚度为da＝λ/4/na＝0.0847 μm， 电介质薄片B的厚度为db＝ λ/4/nb＝0.0997 μm， 其中入射波长 λ＝0.85 μm； 所述电介质薄片C的厚度为dc＝0.145 μm； 所述 肝脏病理切片E的厚度为de＝0.2 μm； 所述电介质薄片A、 B、 C和肝脏病理切片E的长度和宽度 均为100 μm， 光波导D的半径为5 0 μm。 5.根据权利要求1所述的一种基于空间古斯 ‑汉森位移的肝脏病理切片检测结构， 其特 征在于， 所述 光子晶体的周期数N ＝2或4。 6.一种权利要求1 ‑5任意一项所述的肝脏病理切片检测结构的制备方法， 其特征在于， 包括以下步骤： 1)制作电介质薄片A、 B、 C和肝脏病理切 片E， 并将电介质薄片A、 B交替排列， 与肝脏病理 切片E、 缺陷层C， 形成多层电介质结构E(AB)NC(BA)N； 2)制作半球形电介质光波导D， 并将 其置于上述结构E(AB)NC(BA)N的靠近肝脏病理切片 E的一端， 形成肝脏病理切片检测结构 DE(AB)NC(BA)N。 7.根据权利要求6所述的肝脏病理切片检测结构的制备方法， 其特征在于， 所述步骤1) 中， 电介质薄片A、 B、 C均按照如下流程制作而成： 定向切片 →研磨→抛光； 肝脏病理切片 E按 照如下流程制作而成： 取材 →固定→脱水→透明处理 →浸蜡→融蜡→包埋→冷却→修蜡→ 切片→粘片→展片→烘片→染色→风干封片。 8.根据权利要求7所述的肝脏病理切片检测结构的制备方法， 其特征在于， 所述步骤1) 中， 电介质薄片A的制作， 采用折射率为na＝2.5086的二 氧化钛晶体预制棒， 制成厚度为da＝ λ/4/na＝0.0847 μm的电介质薄片A； 电介质薄片B的制作， 采用折射率为nb＝2.132的二氧化 锆晶体预制棒， 制成厚度 为db＝λ/4/nb＝0.0997 μm的电介质薄片B， 其 中入射波长λ＝0.85 μ m； 电介质薄片C的制作， 采用折射率为nc＝3.636的硅晶体预制棒， 制成厚度为dc＝0.145 μm 的电介质薄片C； 肝脏病理切片E的制作， 采用离体30min内的病体样本， 制成厚度为de＝0.2 μm的肝脏病理切片E 。 9.根据权利要求6所述的肝脏病理切片检测结构的制备方法， 其特征在于， 所述步骤2) 的半球形电介质光波导D的制 作， 包括以下具体步骤： 折射率为nd＝1.4525的二氧化硅晶体权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115144370 A 2预制棒定向切片 →研磨→抛光， 制成半球形。 10.根据权利要求8所述的肝脏病理切片检测结构的制备方法， 其特征在于， 所述步骤 1)的电介质薄片A、 B、 C和肝脏病理切片E的长度和宽度均为100 μm， 所述步骤2)的半球形电 介质光波导D的半径为5 0 μm。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115144370 A 3