GB-T 16527-1996 硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范

GB ICS 31.200 L90 中华人民共和国国家标准 GB/T16527—1996 硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范 Specification for photoresist/E-beam resist for hard surface photoplates 1996-09-09发布 1997-05-01实施国家技术监督局发布 GB/T16527—1996 前言本标准等效采用SEMI标准SEMIP3-90《硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范》。本标准第5章要求中5.2条和5.3条均按SEMIP3一90制定，且根据产品使用方的需要，增加了 5.1条抗蚀剂涂层性能。 SEMI标准是半导体设备和材料国际标准，具有较高的科学性和先进性，内容全面，标准配套。本标准与已经转化为我国标准的SEMIP1—92《硬面光掩模基板》(GB/T15871—1995）、SEMIP2—86《硬面光掩模用铬薄膜》（GB/T15870—1995）、SEMIP4—92《圆形石英玻璃光掩模基板规范》 (GB/T16523—1996）、SEMIP6—88《光掩模对准标记规范》(GB/T16524—1996）及准备转化为我国标准的SEMIP21—92《掩模曝光系统准确度表示准则》、SEMIP19一92《用于集成电路制造技术的检测图形单元规范》等项标准形成一个微型构图标准系列。本标准附录A是提示的附录。本标准由中华人民共和国电子工业部提出。本标准由电子工业部标准化研究所归口。本标准起草单位：长沙韶光微电子总公司、电子工业部标准化研究所。本标准主要起草人：谈仁良、吴保华、王亦林、韩艳芬。

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本文档由人生无常于 2024-06-26 14:05:30上传分享